Universidad rusa desarrollará herramientas de fabricación de chips de 7nm

Hoy Rusia vuelve a ser noticia en el ámbito tecnológico. O bien, más concretamente el Instituto Ruso de Física Aplicada de la Academia Rusa de Ciencias (IAP). Como se ha revelado, este instituto ha comenzado a desarrollarse su propio escáner litográfico para que el país pueda fabricar sus propios chips a un nodo de 7nm. Eso sí, la situación actual no cambiará, ya que todo el diseño aún se encuentra en fase de desarrollo y su construcción se llevaría a cabo para el año 2028.

Esto es bastante curioso, ya que desde la universidad indican que su proceso podrá para superar a su contraparte en TSMC. Eso sí, si realmente llega en 2028, esto implicaría que su litografía a 7 nm podría ser mejor pero llegará uno de cada uno luego de que ASML produjera su equipo Twinscan NXT:2000i para imprimir chips a dicho proceso litográfico. Fue durante la segunda mitad de 2017 que ASML finalizó el desarrollo de su máquina. Pero no fue hasta agosto 2018 que comenzó a enviar las máquinas a sus socios. Como beneficio adicional, también eran compatibles con 5 nm.

Rusia, de la edad de piedra de la tecnología, a soñar con chips de 7nm

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Hasta la guerra contra Ucrania, todo iba de maravilla, pues aunque a nivel de diseño Rusia también está a años luz, al menos las fundiciones de terceros podrían sacar a la luz sus diseños. Ahora, sin fábricas que den vida a tus propios diseños, como la recién anunciada CPU Baikal-S con 48 núcleos ARM, están en serios problemas. Por eso, el gobierno ruso lanzó un programa nacional para desarrollar su propia tecnología de fabricación de 28nm para salir del apuro, pero claro, esto no será posible hasta el año 2030.

Es decir, si todo va bien, y es que el principal avance tecnológico de Rusia es aplicar ingeniería inversa a tantos chips extranjeros como sea posible. Esto es complicado cuando además tendrás que formar talento local para trabajar en fichas nacionales. Esto no solo está relacionado con la fabricación, sino que incluso ARM no puede otorgar licencias de sus tecnologías a diseñadores de chips con sede en Rusia. Debido a esto, el país está con una mano adelante y la otra atrás, teniendo ahora que diseñar sus propios productos y lo que es más difícil, tener las fábricas necesarias para trasladar estos diseños del papel a un chip físico.

Rusia solo es capaz de producir chips en un proceso de fabricación de 65nm

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Hasta donde se sabe, la fábrica más avanzada de Rusia puede producir chips con una tecnología de fabricación. de 65nm. Mientras tanto, los fabricantes de herramientas de fabricación estadounidenses y europeos no pueden suministrar sus equipos a Rusia por sanciones. Esto obliga a Rusia a diseñar y construir equipos domésticos de producción de obleas si quiere adoptar un proceso de fabricación de chips de 28 nm.

ASML ha tardado décadas en estar donde está, pero Rusia no quiere hacer un avance sigiloso, quiere dar un gran salto para ser capaz de producir chips de alto rendimiento. Aunque tiene su lógica, no todo es tan sencillo. Obviamente, toda la información del IAP ha sido publicada en un sitio web de desarrollo de estrategia local, y allí afirman que si bien crear un escáner litográfico para dar obleas a 7nm es un movimiento complejo, indican que creen que pueden desarrollar su propia herramienta en un período “relativamente corto”, 2028.

Para hacer esto, la herramienta será algo diferente a los escáneres producidos por ASML o Nikon. Por ejemplo, IAP planea usar una fuente de luz más de 600W (máxima potencia, sin potencia de enfoque intermedia) con una longitud de onda de exposición de 11,3 nm (la longitud de onda EUV es de 13,5 nm), lo que requerirá una óptica considerablemente más sofisticada que la que existe actualmente. Dado que la fuente de luz del dispositivo tendrá una potencia relativamente baja, hará que la herramienta más compacto y más fácil de construir.

La prioridad de Rusia es fabricar chips de 7nm lo antes posible a cambio de una baja producción

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Sin embargo, una máquina más compacta y más rápida de producir también significa que la salida del escáner será considerablemente menor en comparación con su contraparte en ASML. Esto no es realmente un problema para Rusia, ya que quiere lanzar sus chips de 7nm “para mañana” independientemente de la producción, ya que toda la producción es para uso nacional.

“ASML, líder mundial en litografía, ha estado desarrollando su sistema de litografía EUV durante casi 20 años, y la tecnología ha resultado ser increíblemente compleja”, dice Nikolai Chkhalo, director adjunto del Instituto de Física de la Academia Rusa de Ciencias. Microestructuras para el Desarrollo Científico y tecnológico.

“El principal objetivo de ASML en este caso era mantener la altísima productividad que solo se necesita en las fábricas más grandes del mundo. En Rusia, nadie necesita una productividad tan alta. En nuestro trabajo partimos de las necesidades y tareas que enfrenta la microelectrónica nacional, y no se trata tanto de cantidad como de calidad. En primer lugar, tenemos que pasar a nuestros propios procesos de fabricación, desarrollar nuestros propios estándares de diseño, nuestras propias herramientas, ingeniería, materiales, por lo que nuestro propio camino es inevitable aquí. De hecho, necesitamos un equilibrio entre simplicidad y rendimiento”.

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